منبع تغذیه جریان مستقیم بایوس زیرلایه با جریان (0 تا 100 میلی آمپر) (0 تا 150 میلی آمپر) (0 تا 200 میلی آمپر) (0 تا 250 میلی آمپر)

با قابلیت کنترل ولتاژ

 

کنترل ها بصورت دستی یا به صورت برنامه ریزی شده با قابلیت ذخیره و بازیابی برنامه ها جهت فرآیند لایه نشانی در مدلهای زیر:

محصول شماره 1: منبع تغذیه جریان مستقیم بایوس زیرلایه جهت لایه نشانی سیستم اسپاترینگ تک کاتد تحت پلتفرم ویژوال استودیو و یا راد استودیو (BPDV)

 

محصول شماره 2: شبکه منابع تغذیه جریان مستقیم بایوس زیرلایه جهت لایه نشانی سیستم های اسپاترینگ چند کاتده با کنترل های جداگانه و یا جمعی تحت پلتفرم ویژوال استودیو و راد استودیو (BPDVR)

محصول شماره 3: منبع تغذیه جریان مستقیم بایوس زیرلایه جهت لایه نشانی سیستم اسپاترینگ تک کاتد با کنترل  BPDH)  HMI)

محصول شماره 4: شبکه منابع تغذیه جریان مستقیم بایوس زیرلایه جهت لایه نشانی سیستم های اسپاترینگ چند کاتده با کنترل های جداگانه و یا جمعی BPDHR)  HMI)

نرم اقزار طبق سفارش کاربر طراحی و ارائه می گردد.

This post is also available in: English